1.クリーンブース

危険物製造所内に設置されており、電子材料製品などのクリーン度を必要とする各種作業に適しています。クリーン度は、クラス100,000以下・1室（80㎥）とクラス10,000以下2室（17.5㎥×2）となります。

2.全自動プッシャー式連続焼成炉およびローラーハースキルンによる加熱・焼結・熱処理

セラミック・電子部品、触媒などを所定の温度で加熱・焼結・熱処理するのに適しています。いずれもMAX1000℃まで、ローラーハースキルンは、雰囲気焼成（N2ガス）対応となっております。

3.棚段式真空乾燥機による低温乾燥

棚段式の大型乾燥機であり、真空・低温乾燥ができますので、高温を嫌う物の乾燥に適しています。真空度 -98kPa、実効容積720L・2基、650L・1基所有しています。

4.ナウターミキサ（真空乾燥機）による減圧乾燥

真空・減圧下で乾燥を行うバッチ式乾燥機です。高い混合性能により、外部ジャケットからの熱伝達および真空下なため乾燥効率が良く、有効容積は、2,000Lなっております。

5.スプレードライヤーによる噴霧乾燥

ファインセラミックス原料やファインケミカル化成品などさまざま分野で使用されます。ロータリーアトマイザー、一流体・二流体ノズルの各噴霧方式に対応する小型～量産機を5基所有しています。

6.ビーズミルによる水系・溶剤系の湿式粉砕

完全密閉・横型のビーズミルで、微小粒径までの湿式粉砕・分散に適しています。ダイノーミル・ウルトラビスコミル・グレンミル・MPなど所有しています。

7.フィルタープレスによるろ過・洗浄

PP製フレームプレートによるろ過機で、実効容積570L・500Lの2機ございます。

8.ドライマイスタによる気流乾燥

粉砕・分級機内蔵の高性能気流乾燥機で微粉乾燥製品を瞬時に連続的に得るのに適しています。水分蒸発量（30kg/h～40kg/h）

9.サニタリー式常圧棚段乾燥機によるコンタミ防止

サニタリーで全洗浄ができるため、コンタミ対策にも最適です。8基のサニタリー式常圧棚段乾燥がございます。

10.各種粉砕機によるコンタミの少ない粉砕

コンタミ防止の為にパーティションを施工した粉砕工場です。ピンミル（コロプレックスミル）1基とアトマイザー2基の3室に仕切っております。